Ausschreibung
Niederlande – Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) – European Tender Electron Beam Lithography system
Beschreibung
The University of Twente is tendering to purchase an Electron Beam Lithography system. The MESA+ Institute of the University of Twente will invest in a new Electron Beam system (e-beam system). A system, suitable for defining patterns in electron sensitive resists, at high resolution and high speed, compatible with a wide range of applications and substrate types up to 200mm in diameter. The system will be used by a wide range of users, i.e. academic researchers and students as well as industrial engineers with different backgrounds (photonics, (nano)-electronics etc.) and different levels of expertise.
Dossier: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto
Mit einem Konto liest Zuschlagsreif die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus ein Dossier: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.
Dossier ansehenAngaben aus der Bekanntmachung
- Auftraggeber
- Universiteit Twente
- Ort
- Enschede
- CPV
-
38000000 — Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Weitere: 38341100 - Verfahrensart
- Offenes Verfahren
- Veröffentlicht
- 09.07.2026
- Angebotsfrist
- 21.08.2026, 12:00
- Vergabenummer
- d75e7f85-f950-4008-ab95-b4ee18bf06fa
- Quelle
- ted
Lose
- Los LOT-00003.500.000 €
Änderungen der Bekanntmachung
- angebotsfrist 11.09.2026
Zum Vergabeportal
Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 11.09.2026, 19:38.