Ergebnis der Vergabe

Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage

Beschreibung

Eine Atomic-Layer-Deposition (ALD)-Anlage zur Durchführung von Forschungsarbeiten

Dossier: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto

Mit einem Konto liest Zuschlagsreif die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus ein Dossier: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.

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Angaben aus der Bekanntmachung

Auftraggeber: Technische Universität München
Ort: München
Bundesland: Bayern
CPV: 31712100 — Mikroelektronische Maschinen und Geräte
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Veröffentlicht: 27.08.2026
Quelle: doee

Zuschlag

Veeco GmbH

Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 11.09.2026, 18:35.