Ausschreibung

teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken

16.09.2026 Angebotsfrist · noch 4 Tage

Beschreibung

Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Es müssen 6", 7" und 9" Masken durch ein mögliches Austauschen des Chucks gereinigt werden können. teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken

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Angaben aus der Bekanntmachung

Auftraggeber: Fraunhofer ENAS
Bundesland: Sachsen
Verfahrensart: Öffentliche Ausschreibung
Veröffentlicht: 29.08.2026
Angebotsfrist: 16.09.2026, 12:00
Quelle: doee

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Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 11.09.2026, 18:36.