Ergebnis der Vergabe
Frankreich – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Equipement de dépôt LPCVD
Beschreibung
Le CEA Grenoble pour ses activités de recherche visant à développer les technologies SOI d'un diamètre de 10 nm et au-delà, le CEA-LETI souhaite acquérir un système LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) compact basé sur un seul tube vertical. Ce système devra traiter automatiquement des plaquettes de 300 mm destiné au dépôt de silicium non dopé et dopé (avec du bore ou du phosphore).
Dossier: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto
Mit einem Konto liest Zuschlagsreif die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus ein Dossier: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.
Dossier ansehenAngaben aus der Bekanntmachung
- Ort
- Grenoble
- Bundesland
- Auvergne-Rhône-Alpes
- CPV
- 31712100 — Mikroelektronische Maschinen und Geräte
- Verfahrensart
- Verhandlungsverfahren mit vorheriger Veröffentlichung eines Aufrufs zum Wettbewerb/Verhandlungsverfahren
- Veröffentlicht
- 22.05.2026
- Zuschlag am
- 11.05.2026
- Vergabenummer
- 33b59efe-e89c-4429-aa93-0a03b7b41cc1
- Quelle
- ted
Lose
- Los LOT-0001
Zuschlag
- TOKYO ELECTRON EUROPE LIMITEDCrawley
Zum Vergabeportal
Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 11.09.2026, 19:16.