Ergebnis der Vergabe
Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage
2
Bieter
1
Los
Beschreibung
Eine Atomic-Layer-Deposition (ALD)-Anlage zur Durchführung von Forschungsarbeiten
Dossier: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto
Mit einem Konto liest Zuschlagsreif die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus ein Dossier: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.
Dossier ansehenAngaben aus der Bekanntmachung
- Auftraggeber
- Technische Universität München
- Ort
- München
- Bundesland
- Bayern
- CPV
- 31712100 — Mikroelektronische Maschinen und Geräte
- Verfahrensart
- Offenes Verfahren
- Veröffentlicht
- 27.08.2026
- Zuschlag am
- 11.08.2026
- Kennung
- 196028f0-89e5-49a4-b587-9a9c9c914a98
- Quelle
- TED (EU-Amtsblatt)
Lose
- Los 1
Zuschlag
- Veeco GmbHAschheim
Verlauf des Verfahrens
-
Ausschreibung
11.06.2026
Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage -
Ergebnis der Vergabe
27.08.2026
Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage
Zum Vergabeportal
Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 11.09.2026, 18:34.