Ausschreibung
Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Lieferung einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System)
17.06.2026
Angebotsfrist · abgelaufen
1
Los
Beschreibung
Lieferung einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System)
Dossier: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto
Mit einem Konto liest Zuschlagsreif die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus ein Dossier: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.
Dossier ansehenAngaben aus der Bekanntmachung
- Ort
- Waldheim
- Bundesland
- Sachsen
- CPV
- 31712100 — Mikroelektronische Maschinen und Geräte
- Verfahrensart
- Offenes Verfahren
- Veröffentlicht
- 13.05.2026
- Angebotsfrist
- 17.06.2026, 20:00
- Kennung
- 019e0178-f4b2-4d65-9d09-68ed63f910bf
- Quelle
- TED (EU-Amtsblatt)
Lose
- Los 1
Verlauf des Verfahrens
-
Ausschreibung
12.05.2026
Lieferung einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System) -
Ausschreibung
13.05.2026
Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Lieferung einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System) -
Ergebnis der Vergabe
30.06.2026
Lieferung einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System) -
Ergebnis der Vergabe
02.07.2026
Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Lieferung einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System)
Zum Vergabeportal
Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 11.09.2026, 19:12.