Ausschreibung

Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte und Mikrosysteme – Reactive ion etcher

28.04.2026 Teilnahmefrist · abgelaufen

1 Los

Beschreibung

Herstellung, Vertrieb und Service von Plasmaätzanlagen (RIE/ICP-RIE) für die Mikro- und Nanofabrikation. Genaueres entnehmen Sie bitte aus dem Lastenheft.

Dossier: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto

Mit einem Konto liest Zuschlagsreif die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus ein Dossier: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.

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Angaben aus der Bekanntmachung

Auftraggeber: Max-Planck-Institut für Struktur und Dynamik der Materie
Ort: Hamburg
Bundesland: Hamburg
CPV: 31712000 — Mikroelektronische Maschinen und Geräte und Mikrosysteme
Weitere: 31720000, 38000000
Verfahrensart: Nichtoffenes Verfahren
Veröffentlicht: 25.03.2026
Teilnahmefrist: 28.04.2026, 23:59
Kennung: 00d627e3-b2b6-4a01-858e-e676525f828f
Quelle: TED (EU-Amtsblatt)

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Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 12.09.2026, 17:43.