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Ergebnis der Vergabe

Niederlande – Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) – European Tender Two Parallel Plate Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Systems

870.000 € Zuschlagswert
1 Bieter
1 Los

Beschreibung

The University of Twente is tendering to purchase two new Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition systems. The MESA+ Institute will invest in two new systems for deposition of (doped) dielectric thin films to upgrade and reinforce their state-of-the-art thin film technology and processing capacity. The systems will be used for moderate-temperature deposition of low stress thin films. For the following materials: silicon dioxide (SiO2) boron-doped SiO2 (BSG) phosphorus-doped SiO2 (PSG) boron-phosphorus-doped SiO2 (BPSG) low-stress silicon nitride (SiNx) silicon oxynitride (SiOxNy) amorphous silicon (aSi)

Analyse: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto

Mit einem Konto liest Zuschlagsreif die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus eine Analyse: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.

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Angaben aus der Bekanntmachung

Auftraggeber
Universiteit Twente
Ort
Enschede
CPV
38000000 — Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Verfahrensart
Offenes Verfahren
Veröffentlicht
09.02.2026
Zuschlag am
26.08.2025
Kennung
f7dc0cc9-05fc-482f-812d-aeac3a214c4f
Quelle
TED (EU-Amtsblatt)

Lose

Zuschlag

Verlauf des Verfahrens

Zum Vergabeportal

Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 12.09.2026, 17:53.