Ergebnis der Vergabe

Frankreich – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Fourniture d'une piste de lithographie 248 nm

Beschreibung

Le CEA-Leti souhaite faire l’acquisition d’une piste de lithographie 248 nm. Cet équipement vise à être utilisé pour traiter des plaques 300mm pour le développement des technologies avancées FDSOI 7 nm et au-delà, et plus particulièrement les niveaux implant et BEOL. Cet équipement est destiné à étaler, développer et cuire des résines photosensibles et des couches associées automatiquement. Il sera interfacé à un scanner 248 nm et devra intégrer les modules nécessaires pour les procédés de lithographie optique, et plus particulièrement l’usage d’un scanner KrF, développés par le CEA-Leti. Le marché envisagé comprend les options suivantes : - Options avec chiffrage obligatoire : o OPT1 : Logiciel pour l’écriture des recettes hors-ligne (§3.3.1) - Options avec chiffrage facultatif : o OPT2 : Module d’étalement de bord de plaque (§3.1.1) o OPT3 : Module de mesure de déformation et de bow des plaques) (§3.1.1) o OPT4 : Formation à la Maintenance de 1er niveau (§9) o OPT5 : Formation à la Maintenance avancée (§9) o OPT6 : Echangeurs de chaleur et systèmes de refroidissement (§3.2.6) o OPT7 : Transformateur électrique (§4.1.4) o OPT8 : Deuxième année de garantie (§11.1)

Angaben aus der Bekanntmachung

Auftraggeber

CEA/GRENOBLE

Ort

Grenoble

Bundesland

Auvergne-Rhône-Alpes

CPV

31712100 — Mikroelektronische Maschinen und Geräte

Verfahrensart

Verhandlungsverfahren mit vorheriger Veröffentlichung eines Aufrufs zum Wettbewerb/Verhandlungsverfahren

Veröffentlicht

21.01.2026

Zuschlag am

11.01.2026

Kennung

0eebefb9-29c7-4dda-bb3a-a0418adbe155

Quelle

TED (EU-Amtsblatt)

Lose

• Los 1

Zuschlag

• TOKYO ÉLECTRON EUROPE LIMITEDCrawley

Zum Vergabeportal

• Original-Bekanntmachung

Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 12.09.2026, 18:15.