Ergebnis der Vergabe
Schweiz – Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) – Dünnschicht-Cluster-Abscheidungssystem für das Sputtern von Metallen und Dielektrika
6
Bieter
1
Los
Beschreibung
Dünnschicht-Cluster-Beschichtungsanlage für das Sputtern von Metallen und Dielektrika Clusteranlage mit einer Schleuse und 4 Prozesskammern (PCs) für das DC- und RF-Sputtern von Dielektrika und Metallen auf Halbleiter- und anderen Substraten. Details entnehmen Sie bitte unserer Spezifikation.
Dossier: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto
Mit einem Konto liest Zuschlagsreif die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus ein Dossier: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.
Dossier ansehenAngaben aus der Bekanntmachung
- Auftraggeber
- ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
- Ort
- Zürich
- CPV
- 38000000 — Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
- Verfahrensart
- Offenes Verfahren
- Veröffentlicht
- 20.11.2025
- Zuschlag am
- 19.11.2025
- Kennung
- f5338cbf-a4ce-43eb-9444-75dcb567dfd5
- Quelle
- TED (EU-Amtsblatt)
Lose
- Los 0
Zuschlag
- DE_Evatec AGTrübbach
Zum Vergabeportal
Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 12.09.2026, 18:52.