Ergebnis der Vergabe

Deutschland – Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke – Plasmaanlagen

1 Bieter

1 Los

Beschreibung

Plasmaanlagen für das reaktive Ionenätzen (reactive ion etching, RIE) und Plasmareinigung zur Prozessierung von bis zu 6 Zoll großen Substraten

Analyse: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto

Mit einem Konto liest Zuschlagsreif die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus eine Analyse: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.

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Angaben aus der Bekanntmachung

Auftraggeber: Universität Siegen
Ort: Siegen
Bundesland: Nordrhein-Westfalen
CPV: 42990000 — Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Veröffentlicht: 11.02.2025
Zuschlag am: 06.02.2025
Kennung: 0d86de86-2a3b-42ba-ae1c-2031436f18ff
Quelle: TED (EU-Amtsblatt)

Lose

Los 1

Zuschlag

Diener electronic GmbH & Co KGEbhausen

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Original-Bekanntmachung

Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 12.09.2026, 21:30.