Ergebnis der Vergabe
maskenloses UV-Direktlithographie-System
Beschreibung
Beschafft werden soll ein kompaktes, für den Reinraumeinsatz geeignetes Tischsystem zur maskenlo-sen UV-Direktlithographie für Forschung, Entwicklung und Kleinserien-Prototyping. Das System muss sowohl eine rasterbasierte Vollflächenbelichtung als auch einen zusätzlichen vektorbasierten Direkt-belichtungsmodus bereitstellen, um hochauflösende Mikro- und Nanostrukturen, Ausbesserungen bestehender Strukturen sowie konturtreue Linienbelichtungen auf unterschiedlichsten Substraten zu ermöglichen. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2
Dossier: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto
Mit einem Konto liest Zuschlagsreif die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus ein Dossier: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.
Dossier ansehenAngaben aus der Bekanntmachung
- Auftraggeber
- Friedrich-Schiller-Universität Jena
- Ort
- Jena
- Bundesland
- Thüringen
- CPV
- 38000000 — Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
- Verfahrensart
- Offenes Verfahren
- Veröffentlicht
- 14.07.2026
- Zuschlag am
- 14.07.2026
- Kennung
- e09a1bea-a718-4524-ac68-f2bb8f03098c
- Quelle
- oeffentlichevergabe.de (Bund)
Zuschlag
- Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH
Verlauf des Verfahrens
-
Ausschreibung
21.05.2026
maskenloses UV-Direktlithographie-System -
Ausschreibung
22.05.2026
Deutschland – Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) – maskenloses UV-Direktlithographie-System -
Ergebnis der Vergabe
14.07.2026
maskenloses UV-Direktlithographie-System -
Ergebnis der Vergabe
15.07.2026
Deutschland – Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) – maskenloses UV-Direktlithographie-System
Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 11.09.2026, 17:57.