Ergebnis der Vergabe

Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte und Mikrosysteme – Chemisch-Mechanisches Poliersystem (CMP) - PR361041 - 2480 - W

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Beschreibung

PR361041 - 2480 - W Chemisch-Mechanisches Poliersystem (CMP)

Analyse: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto

Mit einem Konto liest Zuschlagsreif die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus eine Analyse: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.

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Angaben aus der Bekanntmachung

Auftraggeber: Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
Ort: München
Bundesland: Sachsen
CPV: 31712000 — Mikroelektronische Maschinen und Geräte und Mikrosysteme
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren mit vorheriger Veröffentlichung eines Aufrufs zum Wettbewerb/Verhandlungsverfahren
Veröffentlicht: 17.01.2024
Kennung: ec46041f-7b1b-4240-a2f4-c0481f7ef9b2
Quelle: TED (EU-Amtsblatt)

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Original-Bekanntmachung

Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 17.01.2024, 01:00.