Ergebnis der Vergabe

Deutschland – Halbleiter – Chemisch-Mechanisches Poliersystem (CMP) - PR737788-2480-W

1 Bieter
1 Los

Beschreibung

Chemisch-Mechanisches Poliersystem (CMP)

Analyse: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto

Mit einem Konto liest Zuschlagsreif die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus eine Analyse: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.

Analyse ansehen

Angaben aus der Bekanntmachung

Ort
München
Bundesland
Sachsen
CPV
31712330 — Halbleiter
Verfahrensart
Verhandlungsverfahren mit vorheriger Veröffentlichung eines Aufrufs zum Wettbewerb/Verhandlungsverfahren
Veröffentlicht
08.10.2024
Zuschlag am
02.10.2024
Kennung
9fd3716c-ba95-42a7-90e5-37eeb6eb6bc4
Quelle
TED (EU-Amtsblatt)

Lose

Zuschlag

Zum Vergabeportal

Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 08.10.2024, 00:00.