Zuschlagsreif

Ergebnis der Vergabe

Deutschland – Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) – Hotplate zur Temperung großflächiger Substrate für Elektronenstrahllithografie

216.125 € Geschätzter Wert
216.125 € Zuschlagswert
2 Bieter
1 Los

Beschreibung

Es soll eine halbautomatische Hotplate zur Temperung von mit Resists beschichteten Substraten für hochauflösende Elektronenstrahllithografie beschafft werden. Die Anlage dient zur definierten Pre- und Post-bake chemisch verstärkter Resists, wie bspw. FEP171, bei denen die Empfindlichkeit wesentlich durch das Temperatur Zeit Profil und die Temperatur-Homo genität bestimmt wird. Zu prozessierende Substrate umfassen u.a. 300mm-Wafer, sowie rechteckiger Glas-Substrate bis zu L x B x H = 300mm × 275mm × 15mm. Aus diesen technischen Randbedingungen ergeben sich die folgenden Anforderungen:, siehe Anlage 2.

Dossier: Zuschlagskriterien, Eignung, Checkliste — mit Konto

Mit einem Konto liest Zuschlagsreif die Vergabeunterlagen dieses Verfahrens und erstellt daraus ein Dossier: Zuschlagskriterien mit Gewichtung, Eignungsanforderungen, Zeitplan und eine Checkliste der einzureichenden Unterlagen.

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Angaben aus der Bekanntmachung

Auftraggeber
Friedrich-Schiller-Universität Jena
Ort
Jena
Bundesland
Thüringen
CPV
38000000 — Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Verfahrensart
Offenes Verfahren
Veröffentlicht
02.07.2026
Zuschlag am
30.06.2026
Kennung
308081f0-14d6-4e63-950d-bf5467850b37
Quelle
TED (EU-Amtsblatt)

Lose

Zuschlag

Verlauf des Verfahrens

Zum Vergabeportal

Verbindlich sind allein die Angaben auf dem Vergabeportal. Stand dieser Seite: 11.09.2026, 19:35.